[发明专利]一种CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法在审
| 申请号： | 201911010393.3 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112782820A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 刘宏明;蒋荣方;王骏;赵芬霞 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/00 | 分类号： | G02B7/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 刘晓明 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法，包括滤波镜片、滤波镜片外框、套框和滤波镜片遮避件，所述滤波镜片外框设于套框内，所述滤波镜片设于滤波镜片外框内，所述滤波镜片为掺杂了石墨的CVD金刚石材质加工而成，所述滤波镜片遮避件设于滤波镜片外表面，所述滤波镜片遮避件为掺杂了石墨的CVD金刚石材质加工而成。本发明属于光电技术领域，具体是指一种可以耐受较高激光功率的CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 金刚石 中性 密度 滤光 装置 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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