[发明专利]一种荧光轮、光源模组和投影机有效
申请号: | 201910957030.4 | 申请日: | 2019-10-10 |
公开(公告)号: | CN110673328B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 钟波;肖适;尹蕾 | 申请(专利权)人: | 成都极米科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;G03B21/20 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 李梦宁 |
地址: | 610000 四川省成都市高新区世*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本申请提供了一种荧光轮、光源模组和投影机,属于投影技术领域。本申请实施例提供一种荧光轮,包括基体、第一荧光粉层和第二荧光粉层,基体包括激发光反射区和激发光透射区。第一荧光粉层设置于激发光反射区的迎光面且沿基体的圆周方向分布。第二荧光粉层设置于激发光透射区的背光面且沿基体的圆周方向分布。第一荧光粉层与第二荧光粉层在基体的径向上至少部分错开。激发光照射在荧光轮上后,激发光照射于荧光轮上的光斑一部分位于激发光反射区并激发第一荧光,一部分位于激发光透射区并激发第二荧光,有效降低了荧光轮的温度,提高了荧光粉效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 荧光 光源 模组 投影机 | ||
【主权项】:
1.一种荧光轮,其特征在于,包括:/n基体,所述基体包括激发光反射区和激发光透射区;/n第一荧光粉层,所述第一荧光粉层设置于所述激发光反射区的迎光面且沿所述基体的圆周方向分布;以及/n第二荧光粉层,所述第二荧光粉层设置于所述激发光透射区的背光面且沿所述基体的圆周方向分布;/n其中,所述第一荧光粉层与所述第二荧光粉层在所述基体的径向上至少部分错开。/n
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