[发明专利]一种供气装置及光刻设备有效
| 申请号： | 201910936797.9 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112578640B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 俞芸 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种供气装置及光刻设备，供气装置包括供气单元、排气单元、气压调节单元、气压监测单元、控制单元。供气单元的进气端连接气源，供气单元的出气端与用气对象的进气端连接；排气单元的进气端与用气对象的出气端连接，排气单元的出气端用于排气；气压调节单元与用气对象连接，用于调节用气对象内部的气压；气压监测单元连接在气压调节单元和用气对象之间的管路上，用于监测用气对象内部的气压，并将监测数据上传给控制单元；供气单元、排气单元和气压调节单元分别与控制单元电连接。本发明能够维持用气对象内部具有恒定气压和流量，保证用气对象内部环境的稳定，进而提高光刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 供气 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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