[发明专利]一种适用于不同光束条件的可调式光阑装置在审
申请号: | 201910876534.3 | 申请日: | 2019-09-17 |
公开(公告)号: | CN110646936A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 于佳琦;林蔚然;郭清源;邱基斯 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;G02B7/00 |
代理公司: | 11260 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑立明;陈亮 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种适用于不同光束条件的可调式光阑装置,包括底座、主支撑架、副支撑架、遮光片、锁紧螺钉和遮光罩,底座作为所述装置的主要支撑结构,用于协助所述遮光片调节到需要的高度;主支撑架固定连接于所述底座上,在内侧设置有导向槽,遮光片能沿所述导向槽上下移动;主支撑架的一侧加工有螺纹排孔或长孔;副支撑架与主支撑架对应安装;遮光片用于遮挡光束,该遮光片向光面加工成楔角形;锁紧螺钉安装于主支撑架的螺纹排孔或长孔内;遮光罩位于装置的顶部,用来遮挡从遮光片反射的杂光。上述装置能够实现光阑大小和位置的快速准确调整,从而满足因能量、波长等不同光束条件和不同调试环境而带来的各种使用需求。 | ||
搜索关键词: | 遮光片 主支撑架 底座 副支撑架 锁紧螺钉 导向槽 遮光罩 螺纹 长孔 排孔 遮挡 调试环境 光阑装置 上下移动 支撑结构 可调式 向光面 楔角形 波长 光阑 杂光 反射 加工 | ||
【主权项】:
1.一种适用于不同光束条件的可调式光阑装置,其特征在于,所述装置包括底座、主支撑架、副支撑架、遮光片、锁紧螺钉和遮光罩,其中:/n所述底座作为所述装置的主要支撑结构,用于协助所述遮光片调节到需要的高度,并增强所述装置整体结构的稳定性;/n所述主支撑架固定连接于所述底座上,在内侧设置有导向槽,所述遮光片能沿所述导向槽上下移动,并能防止所述遮光片发生较大偏转;所述主支撑架的一侧加工有螺纹排孔或长孔,在将所述遮光片移动调节到所需位置后通过螺钉压紧或锁紧;/n所述副支撑架与所述主支撑架对应安装,在所述副支撑架的一侧加工有导向槽,用来协助导向和固定所述遮光片;/n所述遮光片用于遮挡光束,该遮光片向光面加工成楔角形,用于确保大部分镜面反射能量射向设置在上方的遮光罩,避免反射光对光路和人员的影响和危害;/n所述锁紧螺钉安装于所述主支撑架的螺纹排孔或长孔内,用于固定调好位置的遮光片;/n所述遮光罩位于所述装置的顶部,用来遮挡从所述遮光片反射的杂光,确保调试人员的安全。/n
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