[发明专利]电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置在审
申请号: | 201910810297.0 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110517842A | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 阎秋生;黄展亮;潘继生 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | H01F7/02 | 分类号: | H01F7/02;B24B1/00;B24B41/06;G01N11/14 |
代理公司: | 44102 广州粤高专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王锦霞<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 510006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及精密光学加工的技术领域,更具体地,涉及电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置,包括底座、电场发生组件、磁场发生组件、第一旋转组件、第二旋转组件以及设于电场发生组件上方的绝缘挡边,第一旋转组件与电场发生组件连接,第二旋转组件与磁场发生组件连接,电场发生组件、磁场发生组件均与底座连接,绝缘挡边内部分布有电场发生组件产生的电场以及磁场发生组件产生的磁场。本发明通过改变电场发生部分结构和磁极结构实现不同形式的电、磁耦合场,为电磁流变链串控制方式和电磁流变抛光方式的研究提供设备基础;并应用于电磁流变抛光试验、电磁流变性能测试,推动电磁流变抛光在光学精密加工领域的广泛应用。 | ||
搜索关键词: | 电场发生 电磁流变 磁场发生组件 旋转组件 抛光 挡边 绝缘 电磁耦合装置 性能测量装置 磁极结构 底座连接 精密光学 精密加工 控制方式 抛光方式 抛光装置 设备基础 性能测试 组件连接 电场 磁耦合 链串 磁场 底座 应用 试验 加工 研究 | ||
【主权项】:
1.电磁耦合装置,其特征在于,包括底座(100)、电场发生组件(200)、磁场发生组件(300)、驱动电场发生组件(200)转动的第一旋转组件(400)、驱动磁场发生组件(300)转动的第二旋转组件(500)以及设于电场发生组件(200)上方的绝缘挡边(600),所述第一旋转组件(400)与电场发生组件(200)连接,所述第二旋转组件(500)与磁场发生组件(300)连接,所述电场发生组件(200)、磁场发生组件(300)均与底座(100)连接,所述绝缘挡边(600)内部分布有电场发生组件(200)产生的电场以及磁场发生组件(300)产生的磁场。/n
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