[发明专利]一种结晶器框架大面和小面的配合结构在审
申请号: | 201910810244.9 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110405164A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 王林 | 申请(专利权)人: | 重庆丰禾铝业有限公司 |
主分类号: | B22D11/05 | 分类号: | B22D11/05 |
代理公司: | 重庆飞思明珠专利代理事务所(普通合伙) 50228 | 代理人: | 刘念芝 |
地址: | 400000 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 一种结晶器框架大面和小面的配合结构,包括两个结晶器框架大面、两个结晶器框架小面、四个调节块,结晶器框架大面的内侧壁中部为向外弯曲的劣弧段,内侧壁两端为平直段,结晶器框架小面的内侧壁为平直段,结晶器框架小面分别间隙配合在两个结晶器框架大面的平直段之间,且分别通过限位螺栓限定位置,调节块分别固定连接在结晶器框架小面的两端侧壁上,调节块的上端与结晶器框架小面的顶面齐平,下端与结晶器框架小面的底面齐平,各调节块的内侧壁呈朝向结晶器框架大面弯曲的弧面,该弧面的一直边与结晶器框架小面的内侧壁齐平,另一直边与结晶器框架大面的平直段齐平。本发明结构简单、加工成本低,可有效降低企业生产成本和设备成本。 | ||
搜索关键词: | 结晶器框架 内侧壁 平直段 大面 配合结构 齐平 小面 底面齐平 顶面齐平 间隙配合 企业生产 设备成本 限定位置 限位螺栓 侧壁 弧面 劣弧 上端 下端 加工 | ||
【主权项】:
1.一种结晶器框架大面和小面的配合结构,其特征在于:包括两个结晶器框架大面(1)、两个结晶器框架小面(2),以及四个调节块(3),两个所述结晶器框架大面(1)呈平行排列分布,且具有间隔距离,结晶器框架大面(1)的内侧壁中部为向外弯曲的劣弧段(1a),结晶器框架大面(1)的内侧壁两端为平直段(1b),结晶器框架大面(1)中设有沿长度方向延伸的大面冷却通道,所述结晶器框架小面(2)的内侧壁为平直段,结晶器框架小面(2)中设有沿长度方向延伸的小面冷却通道,所述结晶器框架小面(2)分别间隙配合在两个结晶器框架大面(1)的平直段(1b)之间,且分别通过限位螺栓(4)限定位置,所述调节块(3)分别固定连接在结晶器框架小面(2)的两端侧壁上,调节块(3)的上端与结晶器框架小面(2)的顶面齐平,调节块(3)的下端与结晶器框架小面(2)的底面齐平,各调节块(3)的内侧壁呈朝向结晶器框架大面(1)弯曲的弧面(3a),该弧面(3a)的一直边与结晶器框架小面(2)的内侧壁齐平,该弧面(3a)的另一直边与结晶器框架大面(1)的平直段(1b)齐平。
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