[发明专利]一种应用于真空设备中的加热装置有效
| 申请号： | 201910786094.2 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN110475394B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 李吉学;党理 | 申请（专利权）人： | 杭州源位科技有限公司 |
| 主分类号： | H05B3/02 | 分类号： | H05B3/02;H05B3/44 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 巴晓艳 |
| 地址： | 311215 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用于真空设备中的加热装置，涉及真空设备中加热样品领域。该加热装置包括：加热部件，所述加热部件为双热源加热部件，用于对待加热样品进行加热；隔热部件，所述隔热部件包括三层有顶隔热辐射屏蔽结构及陶瓷隔热底座，用于进行隔热处理；支撑部件，所述支撑部件为不锈钢基座，用于支撑加热部件和隔热部件；热电子抑制系统，所述热电子抑制系统用于抑制待加热样品表面热电子的逸出。本发明适用于应用在真空制备中，尤其是扫描电子显微镜中。该装置具有体积小、加热效率高、升温快、热源封闭隔热效果好、有效控制热电子对扫描电子显微镜电子束的影响、高温图像清晰、不影响扫描电子显微镜其它附件功能的正常使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 真空设备 中的 加热 装置 | ||
【主权项】：
1.一种应用于真空设备中的加热装置，其特征在于，所述加热装置包括：/n加热部件，所述加热部件为双热源加热部件，用于对待加热样品进行加热；/n隔热部件，所述隔热部件包括三层有顶隔热辐射屏蔽结构及陶瓷隔热底座，用于进行隔热处理；/n支撑部件，所述支撑部件为不锈钢基座，用于支撑加热部件和隔热部件；/n热电子抑制系统，所述热电子抑制系统用于抑制待加热样品表面热电子的逸出。/n
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