[发明专利]基于超手性光场的圆二色性增强装置及检测方法有效
申请号: | 201910681723.5 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110376134B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 詹其文;甘巧强;芮光浩;胡海峰 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G01N21/19 | 分类号: | G01N21/19 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 徐颖 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于超手性光场的圆二色性增强装置及检测方法,该装置由二氧化硅衬底、金薄膜、氟化镁纳米圆柱阵列、金纳米圆柱阵列从下而上叠加组成。垂直入射的圆偏振光将被高效耦合入金薄膜、氟化镁纳米圆柱和金纳米圆柱所构成的光学谐振腔中,并产生光学手性密度高于普通圆偏振的超手性光场。当手性分子与超手性光场相互作用且分子的共振峰与谐振腔的共振波长匹配时,手性分子的圆二色性将被获得极大提升。此外,通过减小纳米圆柱阵列之间的间隙会造成谐振腔共振峰的红移,有助于进一步增强谐振腔中光场的光学手性密度和手性分子的圆二色性信号。本发明具有圆二色信号强度大和扩展性强强等优点。 | ||
搜索关键词: | 基于 手性 圆二色性 增强 装置 检测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于超手性光场的圆二色性增强装置,其特征在于,从下至上包括二氧化硅衬底、金薄膜、氟化镁纳米圆柱阵列和金纳米圆柱阵列;金薄膜全覆盖于在二氧化硅衬底的上表面上;金纳米圆柱阵列贴叠于氟化镁纳米圆柱阵列上后,置于金薄膜上,两个圆柱阵列的周期相同,两个圆柱阵列中圆柱直径也相同;圆偏振的激光从金纳米圆柱阵列的圆柱面一侧垂直照射,耦合入由金薄膜、氟化镁纳米圆柱阵列和金纳米圆柱阵列所构成的谐振腔。
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