[发明专利]一种可见光和近红外波段的全介质角度不敏感超表面透射型长波通光学滤波器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910679913.3 申请日: 2019-07-26
公开(公告)号: CN110412672B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 钱沁宇;王钦华 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G03F7/00;C23C14/35
代理公司: 扬州苏中专利事务所(普通合伙) 32222 代理人: 许必元
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种可见光和近红外波段的全介质角度不敏感超表面透射型长波通光学滤波器及其制备方法,属于光学技术领域,本发明在长波波段具有高透射率,在短波波段透射被高度抑制,通过Si层和MgF2层纳米柱阵列中耦合的米氏共振效应产生强反射和吸收,通过双光束干涉紫外曝光光刻和真空磁控溅射沉积镀膜,该滤波器在大入射角下依然有非常高的工作效率,其具有角度不敏感、制作容易,面积大,效率高的优点,在液晶显示器,光通信,传感器检测和成像等方面具有重要的应用前景。
搜索关键词: 一种 可见 光和 红外 波段 介质 角度 敏感 表面 透射 长波 光学 滤波器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种可见光和近红外波段的全介质角度不敏感超表面透射型长波通光学滤波器,包括二氧化硅基板;其特征在于:所述二氧化硅基板上设有光刻胶层,所述光刻胶层顶部设置呈大圆孔阵列和小圆柱阵列结构,所述大圆孔的直径和高度分别为d1h1,小圆柱的直径和高度分别为d2h2,所述大圆孔阵列和小圆柱阵列的周期均为p,在所述光刻胶层上依次沉积高度为h1的Si层和MgF2层以形成长波通光学滤波器。
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