[发明专利]一种集群磁流变研磨抛光装置及其使用方法在审
| 申请号： | 201910676443.5 | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN110281085A | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 张棋翔;潘继生;阎秋生 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B41/06;B24B47/00;B24B41/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐丽 |
| 地址： | 510060 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种集群磁流变研磨抛光装置，包括：抛光盘，抛光盘的底面设有至少一个凹槽，凹槽内设有抛光吸附垫，抛光吸附垫设有至少一个工件承置槽；抛光盘的侧壁与底面形成用于盛放磁流变抛光液的腔体；磁流变抛光液的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，纳米磨料粒子在结合剂的作用下包裹在微米磁性颗粒的外表面；设于抛光盘的下方的至少一个磁铁组件，每个磁铁组件均包括至少两个按预设规律排布的磁铁，以使磁流变抛光液形成的柔性抛光垫完全覆盖工件的表面；与磁铁组件相连、用于驱动磁铁组件自转及公转的磁极驱动装置；支撑装置，抛光盘高度可调的设于支撑装置上。本发明还公开了一种上述集群磁流变研磨抛光装置的使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光盘 磁流变抛光液 研磨抛光装置 集群磁流变 磁铁组件 纳米磨料 微米磁性 支撑装置 抛光 结合剂 吸附垫 底面 粒子 磁极驱动装置 驱动磁铁组件 磨料 高度可调 规律排布 柔性抛光 承置槽 磁铁 自转 侧壁 腔体 盛放 预设 | ||
【主权项】：
1.一种集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，包括：抛光盘(1)，所述抛光盘(1)的底面设有至少一个凹槽，所述凹槽内设有用于设置工件(01)的抛光吸附垫(6)，所述抛光吸附垫(6)设有至少一个用于容纳工件(01)的工件承置槽；所述抛光盘(1)的侧壁与所述底面形成用于盛放磁流变抛光液(91)的腔体，以使所述磁流变抛光液(91)完全浸过工件(01)表面；所述磁流变抛光液(91)的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，所述纳米磨料粒子在所述结合剂的作用下包裹在所述微米磁性颗粒的外表面；设于所述抛光盘(1)的下方、用于为所述磁流变抛光液(91)提供磁场的至少一个磁铁组件(2)，每个所述磁铁组件(2)均包括至少两个按预设规律排布的磁铁(21)，以使所述磁流变抛光液(91)形成的柔性抛光垫完全覆盖工件(01)的表面；与所述磁铁组件(2)相连、用于驱动所述磁铁组件(2)自转及公转的磁极驱动装置；用于设置所述抛光盘(1)、所述磁铁组件(2)和所述磁极驱动装置的支撑装置，所述抛光盘(1)高度可调的设于所述支撑装置上，以通过调整所述抛光盘(1)的高度来改变所述抛光盘(1)与所述磁铁组件(2)之间的间隙，以调整抛光压力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学，未经广东工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910676443.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
