[发明专利]一种斜生栅藻高密度培养方法有效

专利信息
申请号: 201910656523.4 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN110205246B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 张聪颖;彭瑞冰;吴盛涛;毛忠键;周鹏;蒋霞敏 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: C12N1/12 分类号: C12N1/12;C12R1/89
代理公司: 青岛海昊知识产权事务所有限公司 37201 代理人: 曾庆国
地址: 315200 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种斜生栅藻培养基,包括以下质量浓度的各组分:KNO3200‑300mg/L;KH2PO4 3.5‑7.0mg/L;FeCl3 1.0‑1.5mg/L;NaHCO3 0.12‑0.17g/L;Na2EDTA 10mg/L;MnSO4 0.25mg/L。最适宜的光照强度70~100μmol/(m2·s),适宜温度为25℃。本发明的培养基和培养方法,在培养斜生栅藻时具有生长速率快、细胞密度大和稳定性好等优点。
搜索关键词: 一种 斜生栅藻 高密度 培养 方法
【主权项】:
1.一种斜生栅藻培养基,其特征在于,包括以下质量浓度的各组分:KNO3 200‑300mg/L;KH2PO4 3.5‑7.0mg/L;FeCl3 1.0‑1.5mg/L;NaHCO3 0.12‑0.17g/L;Na2EDTA 10mg/L;MnSO4 0.25mg/L。
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