[发明专利]一种斜生栅藻高密度培养方法有效
申请号: | 201910656523.4 | 申请日: | 2019-07-19 |
公开(公告)号: | CN110205246B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 张聪颖;彭瑞冰;吴盛涛;毛忠键;周鹏;蒋霞敏 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | C12N1/12 | 分类号: | C12N1/12;C12R1/89 |
代理公司: | 青岛海昊知识产权事务所有限公司 37201 | 代理人: | 曾庆国 |
地址: | 315200 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种斜生栅藻培养基,包括以下质量浓度的各组分:KNO |
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搜索关键词: | 一种 斜生栅藻 高密度 培养 方法 | ||
【主权项】:
1.一种斜生栅藻培养基,其特征在于,包括以下质量浓度的各组分:KNO3 200‑300mg/L;KH2PO4 3.5‑7.0mg/L;FeCl3 1.0‑1.5mg/L;NaHCO3 0.12‑0.17g/L;Na2EDTA 10mg/L;MnSO4 0.25mg/L。
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