[发明专利]高反射率凹轴锥镜的面形检测系统及检测方法有效
| 申请号： | 201910635366.9 | 申请日： | 2019-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN110440710B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 曾爱军;魏张帆;袁乔;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01B9/02 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种高反射率凹轴锥镜的面形检测系统及检测方法，检测系统包括：移相干涉仪、平面标准镜、工作台和调整架，待测凹轴锥镜固定在调整架上，其轴线与移相干涉仪的光轴平行且锥面朝向移相干涉仪的出光方向，调整架安装在工作台上，通过工作台在待测凹轴锥镜轴线方向上的定位扫描移动，以及移相干涉仪的测量光束在待测凹轴锥镜锥面的两次反射和平面标准镜的反射，测量得到待测凹轴锥镜上两个不同径向位置叠加的面形图，并解出待测凹轴锥镜各个不同径向位置的环带面形，最后得到待测凹轴锥镜的面形。本发明具有结构简单，适用性强，对测量件无损伤等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 反射率 凹轴锥镜 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高反射率凹轴锥镜的面形检测系统，其特征在于包含：移相干涉仪(1)、平面标准镜(2)、工作台(3)和调整架(4)，待测凹轴锥镜(5)固定在调整架(4)上，调整架(4)安装在工作台(3)上，所述的待测凹轴锥镜(5)轴线与移相干涉仪(1)的光轴方向平行且锥面朝向移相干涉仪(1)的出光方向，所述的工作台(3)移动方向和移相干涉仪(1)的光轴方向平行，其移动范围确保待测凹轴锥镜(5)的锥面顶点与平面标准镜(2)第二表面的最大距离为D/2sinθ，其中D和θ分别为待测凹轴锥镜(5)的口径和锥角大小；所述的移相干涉仪(1)出射的光束依次入射到所述的平面标准镜(2)的第一表面和第二表面，经该平面标准镜(2)第二表面反射的平行光作为参考光束，经该平面标准镜(2)第二表面透射的平行光作为测量光束；所述的测量光束经所述的待测凹轴锥镜(5)反射后，斜入射到所述的平面标准镜(2)的第二表面，经该第二表面反射再次入射到所述的待测凹轴锥镜(5)，经该待测凹轴锥镜(5)反射后，垂直入射到所述的平面标准镜(2)的第二表面，依次经该第二表面和第一表面透射后与参考光束发生干涉，由移相干涉仪(1)接收，得到相应的面形信息。
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