[发明专利]一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法在审
| 申请号： | 201910586923.2 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110456612A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 张柯;张雷;李伟成 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法，其包括光刻控制系统、多个投影成像系统、数据控制系统、运动平台系统，所述光刻控制系统控制所述投影成像系统、数据控制系统和运动平台系统，所述运动平台系统沿扫描方向运动，所述投影成像系统垂直于扫描方向顺序排列，包括数字微镜阵列DMD、双远心成像系统和分光系统，所述数字微镜阵列DMD的生成的图像通过双远心成像系统和分光系统投影至所述运动平台系统的成像面，相邻所述投影成像系统在成像面形成的成像区域在垂直于所述扫描方向上彼此拼接或重叠，覆盖垂直于所述扫描方向全部区域。光刻板沿着扫描方向扫描，扫描一次即可完成整幅图形，有效的提高了曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 投影成像系统 运动平台系统 扫描方向 双远心成像系统 数据控制系统 数字微镜阵列 分光系统 控制系统 垂直 成像面 光刻 扫描 扫描方向顺序 扫描方向运动 成像区域 成像系统 曝光效率 全部区域 投影光刻 高效率 光刻板 拼接 投影 图像 曝光 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种无掩模光刻系统，其包括光刻控制系统、多个投影成像系统、数据控制系统、运动平台系统，所述光刻控制系统控制所述投影成像系统、数据控制系统和运动平台系统，其特征在于：所述运动平台系统沿扫描方向运动，所述投影成像系统垂直于扫描方向顺序排列，包括数字微镜阵列DMD、双远心成像系统和分光系统，所述数字微镜阵列DMD的生成的图像通过双远心成像系统和分光系统投影至所述运动平台系统的成像面，相邻所述投影成像系统在成像面形成的成像区域在垂直于所述扫描方向上彼此拼接或重叠，覆盖垂直于所述扫描方向全部区域。/n
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