[发明专利]含吡咯并吡咯烷酮和芴构筑单元的荧光共轭高分子、制备方法及应用有效
| 申请号： | 201910556828.8 | 申请日： | 2019-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN110218300B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 范丽娟;吴应忠;马荣梁 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C09K11/06 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215137 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了吡咯并吡咯烷酮和芴两种构筑单元荧光共轭高分子、制备方法及应用。将吡咯并吡咯烷酮（DPP）结构的单体与芴结构的单体2,7‑二溴‑9,9‑二辛基芴，1,4‑苯二硼酸通过Suzuki偶联共聚的方法，得到一种荧光共轭高分子。按本发明技术方案，可通过调节吡咯并吡咯烷酮（DPP）结构的单体与2,7‑二溴‑9,9‑二辛基芴单体的比例，合成的一系列共轭高分子，在三氯甲烷溶剂中聚合物具有不同的荧光发射波长，荧光颜色的变化范围从橙黄色‑黄色‑紫色‑蓝色，实现了对聚合物荧光颜色的控制和调节。 | ||
| 搜索关键词： | 吡咯 吡咯烷酮 构筑 单元 荧光 共轭 高分子 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种含吡咯并吡咯烷酮和芴构筑单元的荧光共轭高分子，其特征在于它的结构式为：![]()
；其中，X为重复单元，X= 0～0.5。
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