[发明专利]光罩和显示面板在审
申请号: | 201910542496.8 | 申请日: | 2019-06-21 |
公开(公告)号: | CN112114494A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 王平;谢邦星;许建勇 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲触控科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F1/68;G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 330096 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本申请涉及显示领域,一种用于图案化涂布负性光阻剂基板的光罩。所述光罩包括图案区和光洁区,所述图案区靠近所述光洁区一侧设有走线区,对应到所述基板的绑定区。所述走线区内设多根并排的走线,对应到所述基板的金属线。所述光罩上每一根所述走线与所述光洁区之间均为间隙设置,且所述走线与所述光洁区之间还连接有导通段,用于平衡所述第一端与所述光洁区之间的电势。所述导通段还通过宽度设定来保证光罩在照射过程中,其对应所述基板下方的材料经过光线衍射而被照射,后续刻蚀过程中材料得以保留。本申请光罩克服了走线区内走线的ESD损害,由本申请光罩制作的基板也可以克服绑定区内金属线的ESD损害。 | ||
搜索关键词: | 显示 面板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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