[发明专利]一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法有效
| 申请号: | 201910529415.0 | 申请日: | 2019-06-19 |
| 公开(公告)号: | CN110340736B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
| 发明(设计)人: | 肖峻峰;牛牧原;王强;许剑锋;罗优明;刘祥;吴佳理 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B41/04 |
| 代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 张彩锦;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明属于超精密光学元件抛光领域,并具体公开了一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法,其包括端盖、套筒、抛光头外壳和隔磁转轴,端盖和抛光头外壳与套筒两端连接,抛光头外壳上开设有进液口和出液口;隔磁转轴安装在套筒内,其一端穿过端盖与外部旋转动力源相连,另一端嵌装有永磁体,并插入抛光头外壳内,与抛光头外壳内部形成流动聚焦腔,出液口位于永磁体正下方;抛光时,磁流变抛光液一部分在隔磁转轴端面处受永磁体作用形成宾汉体,另一部分在流动聚焦腔内流动并经出液口喷出,该部分在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形,以形成平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头。本发明实现不同表面形状工件的高效抛光。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 基于 聚焦 流变 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置,其特征在于,包括端盖(1)、套筒(2)、抛光头外壳(3)和隔磁转轴(4),其中:所述端盖(1)和抛光头外壳(3)分设于所述套筒(2)的两端,并分别与所述套筒(2)的两端相连接,所述抛光头外壳(3)上开设有供磁流变抛光液进入和射出的进液口(9)和出液口(15);所述隔磁转轴(4)安装在所述套筒(2)内,且其一端穿过所述端盖(1)以与外部的旋转动力源相连,进而在旋转动力源的作用下实现旋转,其另一端嵌装有永磁体(5),并插入所述抛光头外壳(3)内,以与抛光头外壳(3)的内部形成与所述进液口(9)和出液口(15)导通的流动聚焦腔(16),此外,所述出液口(15)位于所述永磁体(5)的正下方;抛光时,磁流变抛光液一部分在隔磁转轴(4)的端面处受永磁体(5)的作用形成宾汉体,另一部分在流动聚焦腔(16)内流动并经出液口(15)喷出形成射流,且该部分磁流变抛光液在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形,以使得宾汉体变为平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头,通过该宾汉体小抛光头实现待抛光工件的抛光。
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