[发明专利]日光温室黄瓜群体优化丰产栽培方法

摘要

本发明涉及黄瓜栽培技术领域，尤其是一种基于日光温室黄瓜群体优化的丰产栽培方法，该方法包括如下步骤：黄瓜嫁接育苗，选用高抗砧木接穗；在日光温室土壤栽培条件下采用一年两茬栽培模式，春季提早定植，提早黄瓜上市时期；减短夏季休闲期，延长秋冬茬黄瓜采收期；采用南北垄向栽培模式栽培黄瓜；黄瓜适度密植，春夏茬与秋冬茬定时定量去除老叶、落蔓，调整黄瓜坐果数量，调控植株源库平衡；田间水肥协同管理，在黄瓜生长期内水肥供应采用少量多次、水水带肥、水肥协同供应方式确保黄瓜生长对水肥的要求；黄瓜采收期，及早采收，每隔一天采收一次，采收的黄瓜单果重小于等于200g。采用本发明可实现黄瓜的丰产栽培。

主权项

1.一种日光温室黄瓜群体优化丰产栽培方法，其特征在于：日光温室黄瓜群体优化丰产栽培方法包括如下步骤：步骤一，日光温室黄瓜嫁接栽培，选用高抗砧木和接穗品种育苗；步骤二，日光温室条件下采用春夏茬接秋冬茬栽培模式；早春提早进行黄瓜栽培，提早上市，减短夏季休闲期，延长黄瓜采收期；步骤三，采用南北垄向栽培模式栽培黄瓜，垄底宽度设定为75cm～85cm，垄面宽度设定为55cm～65cm，垄间距设定为75cm～85cm，垄中心间距1m～2m，黄瓜小行距35cm～45cm，黄瓜大行距95cm～105cm，株距20cm～30cm，定植密度为3450株/667m²～3550株/667m²；其中，垄底宽度为每个垄的底部的宽度，垄面宽度为每个垄的上表面的宽度，垄间距为两个相邻的垄之间的距离，垄中心间距为两个相邻的垄的上表面的中心线之间的距离；黄瓜小行距为每垄上的黄瓜的行距，黄瓜大行距为一个垄上的左边行的黄瓜与另一个垄上的右边行的黄瓜的之间的距离，且该两个垄为相邻的两个垄，株距为每垄上的每行黄瓜之间的距离；步骤四，黄瓜植株的群体优化管理，采用适宜种植密度，定期对黄瓜植株进行打叶、落蔓，调整坐果数量，调控植株源库平衡；步骤五，田间水肥协同管理，采用水肥一体化装置，在黄瓜生长期内水肥供应采用少量多次、水水带肥、水肥协同供应方式确保黄瓜生长对水肥的要求；步骤六，黄瓜采收期，及早采收，每隔一天采收一次，采收的黄瓜单果重小于等于200g。