[发明专利]散射校正方法、系统、可读存储介质和设备有效

专利信息
申请号: 201910407650.0 申请日: 2019-05-16
公开(公告)号: CN110215223B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 邓子林 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技股份有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03;G06T5/00
代理公司: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 代理人: 舒丁
地址: 201807 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种散射校正方法、系统、可读存储介质和设备,属于医疗影像技术领域,在医学设备对扫描对象进行扫描后,获取其不加散射校正的响应数据弦图,以及扫描衰减图,根据响应数据弦图和扫描衰减图获取在第一预设数量散射点下的散射事件分布弦图;将响应数据弦图、扫描衰减图和散射事件分布弦图输入至预设的散射校正模型,获得在第二预设数量散射点下的散射事件分布弦图;通过响应数据弦图、第一预设数量散射点下的散射事件分布弦图可快速得到第二预设数量散射点下的散射事件分布弦图,由于第一预设数量小于第二预设数量,利用较少数量散射点的散射事件分布弦图可得到精度更高的较多数量散射点的散射事件分布弦图,加速散射校正的运算速度。
搜索关键词: 散射 校正 方法 系统 可读 存储 介质 设备
【主权项】:
1.一种散射校正方法,其特征在于,包括以下步骤:获取扫描对象的不加散射校正的响应数据弦图,获取所述扫描对象的扫描衰减图;根据所述响应数据弦图和所述扫描衰减图获取在第一预设数量散射点下的散射事件分布弦图;将所述响应数据弦图、所述扫描衰减图和所述散射事件分布弦图输入至预设的散射校正模型,获得在第二预设数量散射点下的散射事件分布弦图;其中,所述第一预设数量小于所述第二预设数量。
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