[发明专利]一种立式真空煅烧炉

摘要

本发明涉及真空炉技术领域，且公开了一种立式真空煅烧炉，包括底座，所述底座的顶部固定安装有真空炉本体，所述真空炉本体的顶部活动连接有顶盖，所述顶盖顶端的中部固定安装有第一把手，所述真空炉本体内腔的底部固定安装有内块。该立式真空煅烧炉，通过设置水箱和弯曲管，由于水箱的内部装填有水源，当连接管中的气体进入至水箱的内部时，气体将会与水面接触，不仅溶解了气体中的粉尘，而且也降低了气体中的温度，并且由于弯曲管的内部循环流通冷却液，从而对导气管内部的气体进行二次降温，极大的降低了气体中的热量，有效的防止了真空泵本体受到高温而损坏的现象，因此增加了该装置的实用性。

主权项

1.一种立式真空煅烧炉，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有真空炉本体(2)，所述真空炉本体(2)的顶部活动连接有顶盖(3)，所述顶盖(3)顶端的中部固定安装有第一把手(4)，所述真空炉本体(2)内腔的底部固定安装有内块(5)，所述内块(5)的顶部固定安装有冶炼筒(6)，所述冶炼筒(6)的外表面缠绕有电阻炉丝(7)，所述真空炉本体(2)的右侧固定安装有水箱(8)，所述冶炼筒(6)右侧的顶部固定安装有位于电阻炉丝(7)上方的连接管(9)，所述连接管(9)的另一端依次贯穿真空炉本体(2)和水箱(8)并延伸至水箱(8)的内部，所述真空炉本体(2)的正面固定安装有过滤箱(10)，所述过滤箱(10)的左侧固定安装有真空泵本体(11)，所述真空泵本体(11)的正面固定连通有排气管(12)，所述真空泵本体(11)的右侧固定连通有进气口(13)，所述进气口(13)的另一端贯穿过滤箱(10)并延伸至过滤箱(10)的内部。