[发明专利]一种薄膜热敏打印头的高精度发热体构造及其制造工艺在审

专利信息
申请号: 201910390570.9 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN110091615A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 雨宫康弘;丛凯春 申请(专利权)人: 武汉晖印半导体有限公司
主分类号: B41J2/335 分类号: B41J2/335
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 赵志雄
地址: 430000 湖北省武汉市洪山区东湖新*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种薄膜热敏打印头的高精度发热体及其制造工艺,属于热敏打印头生产技术领域。包括位于基体层上的发热体,所述发热体包括发热体层和位于发热体层上的绝缘层,导线层位于所述发热体两侧的基体层上,所述导线层延伸至所述斜面顶端。本发明的有益效果是:发热点的面积和电阻值偏差极小,可保证在±0.5%以内;每一发热体的电阻值是由发热体层的形状决定的,不受导线层的形状影响,从而保证了最终产品的电阻值的均匀性。
搜索关键词: 发热体 热敏打印头 发热体层 导线层 制造工艺 基体层 电阻 薄膜 绝缘层 电阻值偏差 生产技术 斜面顶端 发热点 均匀性 面积和 保证 延伸
【主权项】:
1.一种薄膜热敏打印头的高精度发热体的制造工艺,其特征在于,包括如下步骤:S1)通过磁控溅射工艺在基体层(1)上成膜发热体层(2);S2)通过磁控溅射工艺在发热体层(2)上成膜绝缘层(4);S3)在绝缘层(4)上涂覆光刻胶,通过半导体光刻技术在光刻胶表面光刻形成待蚀刻发热体图案;S4)利用半导体干蚀刻技术沿待蚀刻发热体图案对绝缘层(4)和发热体层(2)进行蚀刻;S5)通过磁控溅射工艺在发热体和基体层(1)表面成膜导线层(3);S6)导线层(3)表面涂覆光刻胶,通过半导体光刻技术在光刻胶表面光刻形成待蚀刻导线图案;S7)采用半导体湿蚀刻技术沿待蚀刻导线图案刻蚀出导线形状。
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