[发明专利]OPC修正方法及OPC修正系统

摘要

本发明提供了一种OPC修正方法及一种OPC修正系统，所述OPC修正方法包括：提供待修正的版图图形的集成电路版图以及亚分辨率辅助图形与待修正的版图图形之间的最小间距；选择待修正的版图图形中的若干个作为目标图形，目标图形之间具有冲突区；将目标图形的边界以所述最小间距往外放大形成膨胀层，冲突区透过膨胀层形成暴露区域；在暴露区域添加亚分辨率辅助图形。本发明提供的OPC修正系统包括：存储模块、选择模块、图形变换模块以及修正模块。本发明提供的OPC修正方法在目标图形的冲突区内限定一可以设置亚分辨率辅助图形的暴露区域，在所述暴露区域可以有效并准确地形成亚分辨率辅助图形而不会产生交集。

主权项

1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括：提供一集成电路版图，所述版图包括多个待修正的版图图形，待添加的亚分辨率辅助图形与所述待修正的版图图形之间具有一最小间距；选择所述多个待修正的版图图形中的若干个作为目标图形，所述目标图形之间具有冲突区，在所述冲突区形成的所述目标图形的亚分辨率辅助图形之间具有交集；将所述目标图形的边界以所述最小间距往外放大，形成膨胀层，所述冲突区透过所述膨胀层形成暴露区域；以及在所述暴露区域添加亚分辨率辅助图形。