[发明专利]光刻胶有效
| 申请号： | 201910372874.2 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110174819B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 饶夙缔;陈孝贤 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;程晓 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶，包括树脂、光引发剂、聚合物单体、溶剂以及光反应粒子，其中，所述光引发剂在光照下产生自由基，用于引发聚合物单体发生光交联固化反应形成高聚物，所述光反应粒子根据光的波长对光进行选择性吸收并释放出抗氧化剂，用于捕捉光引发剂在光照下产生的自由基，从而降低聚合物单体的反应程度，进而达到控制光刻胶膜层不同深度的反应程度的作用，在曝光制程中使整个光刻胶膜层的反应程度达到均匀一致，解决在光刻工艺中由于光刻胶表底层反应差异而形成的taper偏陡、膜面不平等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶，其特征在于，包括树脂、光引发剂、聚合物单体、溶剂以及光反应粒子；所述光引发剂在光照下产生自由基，用于引发聚合物单体发生光交联固化反应形成高聚物；所述光反应粒子根据光的波长对光进行选择性吸收并释放出抗氧化剂，用于捕捉光引发剂在光照下产生的自由基，从而降低聚合物单体的反应程度。
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