[发明专利]一种投影拼合式3D打印方法和3D打印装置在审

专利信息
申请号: 201910326731.8 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN109968663A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 何宇浩;高磊;高子行 申请(专利权)人: 上海幻嘉信息科技有限公司
主分类号: B29C64/124 分类号: B29C64/124;B29C64/20;B33Y10/00;B33Y30/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201606 上海市松江区光星*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种投影拼合式3D打印方法和3D打印装置,3D打印方法包括如下步骤,先切片处理要打印的三维模型,并根据三维模型的尺寸大小长宽等比例切分每一层的切片,形成由若干个大小相同、顺序排列的矩形阵列;再获取每层待打印的三维模型的图像数据;然后在设定的时间段,根据矩形阵列顺序排列矩形,逐个曝光矩形阵列的每个矩形,直至该层的所有矩形的图像曝光完毕。当处于一层的图像曝光完毕后,图像曝光平面下降到下一层打印高度,实现下一层图像的曝光,逐层打印直至完成产品打印。解决了现有采用数字光处理技术进行3D打印的设备的打印产品的尺寸不够大的问题。
搜索关键词: 打印 矩形阵列 三维模型 图像曝光 打印装置 拼合式 投影 数字光处理 曝光 产品打印 切片处理 图像数据 时间段 切片 图像
【主权项】:
1.一种投影拼合式3D打印方法,其特征在于,包括如下步骤:Step1:切片处理要打印的三维模型,并根据三维模型的尺寸大小长宽等比例切分每一层的切片,形成由若干个大小相同、顺序排列的矩形阵列;Step2:获取每层待打印的三维模型的图像数据;Step3:在设定的时间段,根据矩形阵列顺序排列矩形,逐个曝光矩形阵列的每个矩形,直至该层的所有矩形的图像曝光完毕。
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