[发明专利]横向相减差动共焦干涉元件多参数测量方法与装置有效
申请号: | 201910319735.3 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110044414B | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 赵维谦;邱丽荣;王允 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01D21/02 | 分类号: | G01D21/02 |
代理公司: | 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人: | 邬晓楠 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开的横向相减差动共焦干涉元件多参数测量方法与装置,属于光学精密测量技术领域。本发明将高层析、抗散射的共焦显微测量技术创新性地融入大尺寸元件参数测量的面形干涉测量系统中,利用自行提出的横向相减差动共焦测量技术来测量元件曲率半径、透镜折射率、透镜厚度、透镜顶焦距和镜组间隙等参数,利用自行提出的被测工件移向干涉面形测量技术来测量元件的表面面形,以期在同一测量装置上实现元件参数的高精度综合测量,大幅提高测量精度和测量效率,同时有效规避干涉测量无法测试精磨元件曲率半径等尺寸参数的难题,为光学球面加工摆脱传统样板检测束缚提供可能,具有广泛应用前景。 | ||
搜索关键词: | 横向 差动 焦干 元件 参数 测量方法 装置 | ||
【主权项】:
1.横向相减差动共焦干涉元件多参数测量方法,其特征在于:包括如下步骤:打开点光源(1),由点光源(1)出射的光经偏振分光镜(2)、四分之一波片(3)、分束镜(4)、准直透镜(5)和测量物镜(6)后形成测量光束(7)并照射在被测元件(8)上;调整被测元件(8)的光轴使其与测量光束(7)共光轴;由被测元件(8)反射回来的光再通过测量物镜(6)和准直透镜(5)后由分束镜(4)分为两路;经分束镜(4)透射的光进入粗瞄监测系统(39)用于被测元件(8)的大视场粗瞄找正;经分束镜(4)反射的光透过四分之一波片(3)和偏振分光镜(2)后又被分束镜(9)分光,经分束镜(9)反射的一路光进入面形干涉测量系统(10),经分束镜(9)透射的光进入横向相减差动共焦系统(11);通过面形干涉测量系统(10)形成干涉图形来测量被测元件(8)的表面面形,通过横向相减差动共焦系统(11)形成差动共焦定焦响应信号(29)用于测量元件高精度综合测量参数,所述高精度综合测量参数包括曲率半径、透镜顶焦距、透镜折射率、透镜厚度及镜组轴向间隙。
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