[发明专利]一种纺织物抗菌喷雾及其制备方法在审
申请号: | 201910286316.4 | 申请日: | 2019-04-10 |
公开(公告)号: | CN110106693A | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 杨晟尧;周始信;甘雨松;瞿畅 | 申请(专利权)人: | 浙江迈实科技有限公司;嘉兴迈之新材料科技有限公司 |
主分类号: | D06M11/56 | 分类号: | D06M11/56;D06M11/42;D06M11/46;D06M11/74 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 张学府 |
地址: | 310005 浙江省杭州市滨江区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及空气净化光触媒领域,具体涉及一种纺织物抗菌喷雾及其制备方法,按重量百分含量计包括异方性光触媒粒子0.5~2%,护理柔顺剂2~6%,表面活性剂1~5%,晶体沉淀物抑制剂0.05~0.2%,香精0.1~0.5%,分散剂0.1~0.5%,防腐剂0.01~0.2%、止泡剂0.1~1%,余量为去离子水,所述异方性光触媒包括Cux(OH)y(SO4)z晶相、CuO晶相、氧化钛,石墨烯,其中x=y+2z,x、y、z均为正整数,所述CuO在2θ=38.8°±1°中的衍射峰值强度与Cux(OH)y(SO4)z在2θ=33.6°±1°的衍射峰值强度比为5~75,所述氧化钛在2θ=36.2°±1°中的衍射峰值强度与Cux(OH)y(SO4)z在2θ=33.6°±1°的衍射峰值强度比为0.01~0.02,氧化肽在2θ=36.2°±1°中的衍射峰值强度与石墨烯在2θ=23°±1°的衍射峰值强度比为200~600。本发明的除菌喷雾具有更好的净化除菌作用。 | ||
搜索关键词: | 衍射 强度比 喷雾 纺织物 光触媒 石墨烯 氧化钛 异方性 除菌 抗菌 制备 表面活性剂 光触媒粒子 晶体沉淀物 空气净化 香精 去离子水 防腐剂 分散剂 柔顺剂 氧化肽 抑制剂 正整数 泡剂 护理 净化 | ||
【主权项】:
1.一种纺织物抗菌喷雾,其特征在于,按重量百分含量计包括异方性光触媒粒子0.5~2%,护理柔顺剂2~6%,表面活性剂1~5%,晶体沉淀物抑制剂0.05~0.2%,香精0.1~0.5%,分散剂0.1~0.5%,防腐剂0.01~0.2%、止泡剂0.1~1%,余量为去离子水,所述异方性光触媒包括Cux(OH)y(SO4)z晶相、CuO晶相、氧化钛,石墨烯,其中x=y+2z,x、y、z均为正整数,所述CuO在2θ=38.8°±1°中的衍射峰值强度与Cux(OH)y(SO4)z在2θ=33.6°±1°的衍射峰值强度比为5~75,所述氧化钛在2θ=36.2°±1°中的衍射峰值强度与Cux(OH)y(SO4)z在2θ=33.6°±1°的衍射峰值强度比为0.01~0.02,氧化肽在2θ=36.2°±1°中的衍射峰值强度与石墨烯在2θ=23°±1°的衍射峰值强度比为200~600。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江迈实科技有限公司;嘉兴迈之新材料科技有限公司,未经浙江迈实科技有限公司;嘉兴迈之新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910286316.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
D06 织物等的处理;洗涤;其他类不包括的柔性材料
D06M 对纤维、纱、线、织物、羽毛或由这些材料制成的纤维制品进行D06类内其他类目所不包括的处理
D06M11-00 用无机物或其配合物处理纤维、纱、线、织物或这些材料制成的纤维制品;和机械处理相结合的处理,如丝光
D06M11-01 .用氢、水或重水;用金属氢化物或其配合物;用硼烷、二硼烷、硅烷、二硅烷、膦、二膦、、二、胂、二胂或它们的配合物
D06M11-07 .用卤素;用氢卤酸或其盐,用氧化物或卤素的含氧酸或其盐
D06M11-32 .用氧、臭氧、臭氧化物、氧化物、氢氧化物或过化合物;从具有两性元素—氧键的阴离子衍生的盐
D06M11-51 .用硫、硒、碲、钋或其化合物
D06M11-58 .用氮或其化合物;如硝酸盐
D06M 对纤维、纱、线、织物、羽毛或由这些材料制成的纤维制品进行D06类内其他类目所不包括的处理
D06M11-00 用无机物或其配合物处理纤维、纱、线、织物或这些材料制成的纤维制品;和机械处理相结合的处理,如丝光
D06M11-01 .用氢、水或重水;用金属氢化物或其配合物;用硼烷、二硼烷、硅烷、二硅烷、膦、二膦、、二、胂、二胂或它们的配合物
D06M11-07 .用卤素;用氢卤酸或其盐,用氧化物或卤素的含氧酸或其盐
D06M11-32 .用氧、臭氧、臭氧化物、氧化物、氢氧化物或过化合物;从具有两性元素—氧键的阴离子衍生的盐
D06M11-51 .用硫、硒、碲、钋或其化合物
D06M11-58 .用氮或其化合物;如硝酸盐