[发明专利]一种Gamma校正方法、设备及系统、介质有效
| 申请号： | 201910280418.5 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN109979390B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 杨抒臻;阳智勇;陈小红;吴丽红;罗霄;叶美松;刘微;黄立为;蒋学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G09G3/3225 | 分类号： | G09G3/3225;G09G3/36 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种Gamma校正方法、设备及系统、介质。该Gamma校正方法包括：在N段调试模式下，对其中M段调试所得的Gamma寄存器同一灰阶同一颜色的值，进行Gamma寄存器值与段编号的拟合，获得该灰阶该颜色下的拟合曲线，所述M大于等于3，且MN；基于所述拟合曲线确定该M段外其他段在该拟合曲线对应的灰阶及颜色下的Gamma寄存器值。通过拟合方式得到未进行调试的Band的Gamma寄存器值，相比直接线性插值的方式，能大幅度优化视觉效果，消除低下亮度及颜色偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 gamma 校正 方法 设备 系统 介质 | ||
【主权项】：
1.一种Gamma校正方法，包括：在N段调试模式下，对其中M段调试所得的Gamma寄存器同一灰阶同一颜色的值，进行Gamma寄存器值与段编号的拟合，获得该灰阶该颜色下的拟合曲线，所述M大于等于3，且M<N；基于所述拟合曲线确定该M段外其他段在该拟合曲线对应的灰阶及颜色下的Gamma寄存器值。
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