[发明专利]改善光阻附着力的方法在审
| 申请号： | 201910275747.0 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110083015A | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 彭钊 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种改善光阻附着力的方法，包括以下步骤：S10提供一玻璃基板；以及S20提供一烷氧基硅烷至所述玻璃基板，使所述烷氧基硅烷与所述玻璃玻璃基板进行化学反应，得到一表面带有疏水基团的玻璃基板以及一水解产物。利用本发明之改善光阻附着力的方法，使基板能有效吸附有机光阻，且过程中产物易于回收利用。 | ||
| 搜索关键词： | 附着力 玻璃基板 光阻 烷氧基硅烷 基板 化学反应 玻璃玻璃 回收利用 疏水基团 水解产物 吸附 | ||
【主权项】：
1.一种改善光阻附着力的方法，包括以下步骤：S10提供一玻璃基板；以及S20提供一烷氧基硅烷至所述玻璃基板，使所述烷氧基硅烷与所述玻璃玻璃基板进行化学反应，得到一表面带有疏水基团的玻璃基板以及一水解产物。
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