[发明专利]一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物

摘要

本发明公开了一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物主要由45‑70wt％重均分子量在50,000‑150,000的碱可溶性共聚物树脂、15‑45wt％的烯属光聚合性不饱和单体、1‑10wt％的光聚合引发剂及0.5‑5wt％添加剂组成，其中，所述碱可溶性聚合物树脂由含有双六元环刚性结构的环烯类酸酐、(甲基)丙烯酸和丙烯酸酯类化合物自由基聚合而成。包含上述碱可溶性聚合物树脂的光敏树脂组合物具备高附着性能、良好的解析度与耐蚀刻性能，有效地减少了蚀刻工艺中断路现象的发生，在PCB生产过程中大大提升了良率与效率。

主权项

1.一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物，其特征在于，所述光敏树脂组合物主要由45‑70wt％重均分子量在50,000‑150,000的碱可溶性共聚物树脂、15‑45wt％的烯属光聚合性不饱和单体、1‑10wt％的光聚合引发剂及0.5‑5wt％添加剂组成，其中，所述碱可溶溶性共聚物树脂是由结构通式(Ⅰ)所示的含有双六元环刚性结构的环烯类酸酐、结构通式(Ⅱ)所示的(甲基)丙烯酸、结构通式(Ⅲ)所示的(甲基)丙烯酸酯自由基聚合而成。其中，R₁、R₂分别独立地选自氢原子、甲基、乙基、丙基、异丙基。其中，R₃为氢原子或甲基。其中，R₄为氢原子或甲基，R₅选自C₁‑C₁₈的烷基、C₂‑C₆的烷氧基。