[发明专利]一种自清洁抗玷污的透明涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910177464.2 申请日: 2019-03-09
公开(公告)号: CN109971352A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 陈锦民;胡超基;姜笑君;胡寿基 申请(专利权)人: 金华市易途新材料有限公司
主分类号: C09D201/04 分类号: C09D201/04;C09D5/16;C09D7/61;C09D7/65
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321000 浙江省金华市金东区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及涂料技术领域,尤其涉及一种自清洁抗玷污的透明涂层的制备方法。在现有技术上降低了成本,并且毒性低,安全性得到大量提高。包括以下步骤:步骤1、将为去离子水(占总比41%)中混合入8%的氟单体、混合入12.5%的硅单体,在上述配料中导入自由基引发剂(过硫酸铵或过硫酸钾),在酸性(PH3.4~4)条件下进行共聚,共聚反应时控温在55~65℃之间,共聚反应4小时制得疏水自洁聚合物,自然冷却;步骤2、将3%浓度的氧化石墨烯流体浆料加入上述疏水自洁聚合物;步骤3、将聚氨酯微球加入疏水自洁聚合物中,加入消泡剂,流平剂,润湿剂,杀菌剂,并搅拌20分钟;步骤4、将聚氨酯增稠剂加入步骤3配比后的疏水自洁聚合物中调节粘度至100ku,均匀出料。
搜索关键词: 聚合物 疏水 自洁 共聚反应 透明涂层 自清洁 制备 玷污 聚氨酯增稠剂 涂料技术领域 自由基引发剂 聚氨酯微球 氧化石墨烯 过硫酸钾 过硫酸铵 均匀出料 流体浆料 去离子水 氟单体 硅单体 流平剂 润湿剂 杀菌剂 消泡剂 共聚 配比 时控
【主权项】:
1.一种自清洁抗玷污的透明涂层的制备方法,其特征是:包括以下步骤:步骤1、将为去离子水(占总比41%)中混合入8%的氟单体、混合入12.5%的硅单体,在上述配料中导入自由基引发剂,在酸性(PH3.4~4)条件下进行共聚,共聚反应时控温在55~65℃之间,共聚反应4小时制得疏水自洁聚合物,自然冷却;步骤2、将3%浓度的氧化石墨烯流体浆料(占总比20%~30%)加入上述疏水自洁聚合物;步骤3、将0.3~0.5微米粒径规格的聚氨酯微球以及100~50纳米粒径规格的聚氨酯微球按3:7的配比加入疏水自洁聚合物中,达到占整个疏水自洁聚合物含量比的13~20%后停止投放;加入消泡剂(占总比0.3%),流平剂(占总比0.2%),润湿剂(占总比0.5%),杀菌剂(占总比0.2%),并搅拌20分钟;步骤4、将聚氨酯增稠剂加入步骤3配比后的疏水自洁聚合物中调节粘度至100ku,均匀出料。
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