[发明专利]落射顶锥壳层光超解析系统及显微镜有效
| 申请号： | 201910175590.4 | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN111665616B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 江安世;朱丽安;张炜堃;林彦颖 | 申请（专利权）人： | 江安世 |
| 主分类号： | G02B21/16 | 分类号： | G02B21/16;G02B21/08;G02B19/00;G02B27/09 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种落射顶锥壳层光超解析系统及落射荧光显微镜。落射顶锥壳层光超解析系统包含：发光元件、透镜组及物镜。发光元件发出的激发光通过透镜组后折射为环形光，并聚焦至物镜的后物镜后焦平面，物镜将环形光聚焦形成环形光锥并聚焦于样本位置，环形光锥具有固定的厚度。此外，激发及取像皆使用同一物镜，进而达成落射荧光显微镜。 | ||
| 搜索关键词： | 落射顶锥壳层光超 解析 系统 显微镜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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