[发明专利]确定光刻掩模的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法有效
| 申请号： | 201910135818.7 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN110174821B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | M.科赫;D.黑尔韦格;R.卡佩利;M.迪茨尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
为了确定光刻掩模(5)对线宽的波动的与结构无关的贡献，以空间分辨的方式评估光刻掩模(5)的非结构化测量区域的记录的2D强度分布(15 |
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| 搜索关键词： | 确定 光刻 波动 结构 无关 贡献 方法 | ||
【主权项】：
1.一种确定光刻掩模(5)的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法，所述线宽的波动为LWR，即线宽粗糙度，所述方法包括以下步骤：1.1提供光学系统(2)，所述光学系统(2)具有成像光刻掩模(5)的成像光学单元(8)，1.2提供光刻掩模(5)，所述光刻掩模(5)具有不含将要成像的结构的至少一个测量区域，1.3用照明辐射(1)照明所述至少一个测量区域，1.4记录所述光刻掩模(5)的至少一个测量区域的焦点堆叠体，1.5以空间分辨的方式评估记录的焦点堆叠体的2D强度分布(15zi)，1.6其中评估所述2D强度分布(15zi)包括确定所检测的2D强度分布(15zi)的标准偏差的离焦相关性，以及1.7其中评估所述2D强度分布(15zi)包括以下步骤：1.7.1.由所述2D强度分布(15zi)的傅里叶变换确定所述2D强度分布(15zi)的频谱![]()
1.7.2.确定所述频谱![]()
的多个频谱分量S(vxi，vyi)的离焦相关性，1.7.3.从所述频谱分量S(vxi，vyi)的确定的离焦相关性确定函数的傅里叶变换![]()
所述函数描述所述光刻掩模(5)的光学表面粗糙度。
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