[发明专利]一种地形绘制方法和装置在审

专利信息
申请号: 201910106963.2 申请日: 2019-02-02
公开(公告)号: CN110648395A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 杜宇欣 申请(专利权)人: 完美世界(北京)软件科技发展有限公司
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05
代理公司: 11361 北京市联德律师事务所 代理人: 黄大正
地址: 100101 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种地形绘制方法和装置。用于绘制地形采样点的方法包括:将地形采样点的地形特征参数与至少一种材质层中的每一种材质层的对应的地形特征参数进行比对;以及如果所述地形采样点与所述至少一种材质层中的一种材质层匹配,则在所述地形采样点上绘制所述一种材质层中的地形材质,或者如果所述地形采样点与所述至少一种材质层中的多种材质层匹配,则在所述地形采样点上绘制所述多种材质层中具有最高材质层优先级的一种材质层的地形材质。
搜索关键词: 材质层 采样点 地形 地形特征 绘制 匹配 方法和装置 地形绘制 比对
【主权项】:
1.一种用于绘制地形采样点的方法,包括:/n将地形采样点的地形特征参数与至少一种材质层中的每一种材质层的对应的地形特征参数进行比对;以及/n如果所述地形采样点与所述至少一种材质层中的一种材质层匹配,则在所述地形采样点上绘制所述一种材质层中的地形材质,或者如果所述地形采样点与所述至少一种材质层中的多种材质层匹配,则在所述地形采样点上绘制所述多种材质层中具有最高材质层优先级的一种材质层的地形材质。/n
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