[发明专利]一种基于PIT效应的全光开关有效
申请号: | 201910085690.8 | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN109752800B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 王波云;余华清;曾庆栋;熊良斌;杜君;吕昊 | 申请(专利权)人: | 湖北工程学院 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/122 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨彩兰 |
地址: | 432000 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于PIT效应的全光开关,包括二氧化硅衬底、金属层、石墨烯层、第一谐振腔和第二谐振腔,所述二氧化硅衬底水平设置,所述金属层水平设置在所述二氧化硅衬底的上端,其上端设有沿前后方向延伸的条形波导,所述波导的两端分别水平延伸至所述金属层的前后两端,所述第一谐振腔和所述第二谐振腔分别沿前后方向间隔设置在所述金属层的上端,并分别位于所述波导的左右两侧,且所述第一谐振腔和所述第二谐振腔均与所述波导连通,所述石墨烯层设置在所述第一谐振腔和所述第二谐振腔之间,并填充在所述波导内,所述波导内填充有空气。本发明公开的一种基于PIT效应的全光开关,具有尺寸小,功耗低和响应速度快的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 pit 效应 开关 | ||
【主权项】:
1.一种基于PIT效应的全光开关,其特征在于,包括二氧化硅衬底(1)、金属层(2)、石墨烯层(3)、第一谐振腔(4)和第二谐振腔(5),所述二氧化硅衬底(1)水平设置,所述金属层(2)水平设置在所述二氧化硅衬底(1)的上端,其上端沿前后方向设有条形波导(6),所述波导(6)的两端分别水平延伸至所述金属层(2)的前后两端,所述第一谐振腔(4)和所述第二谐振腔(5)分别沿前后方向间隔设置在所述金属层(2)的上端,并分别位于所述波导(6)的左右两侧,且所述第一谐振腔(4)和所述第二谐振腔(5)均与所述波导(6)连通,所述石墨烯层(3)设置在所述第一谐振腔(4)和所述第二谐振腔(5)之间,并填充在所述波导(6)内,所述波导(6)内填充有空气。
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