[发明专利]结构化光发生器有效
| 申请号： | 201910061745.1 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109581554B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 郭凯;李小龙;高雪岭;彭宽军;李胜男;刘伟星 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘剑波 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种结构化光发生器。结构化光发生器包括透明基底，设置在透明基底一侧的相互层叠且平行的多个半透半反结构层，其中任意相邻的两个半透半反结构层之间的间距相等，任意相邻的两个半透半反结构层之间的间距为0.1λ至10λ，λ为入射光的波长，以及设置在任意相邻的两个半透半反结构层之间的透明填充层。本公开通过利用相互层叠且平行的多个半透半反结构层模仿晶体的三维阵列结构，从而方便地生成结构化光。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 发生器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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