[发明专利]一种基于LICVD法的纳米材料生产设备

摘要

本发明涉及一种基于LICVD法的纳米材料生产设备，包括反应室、控制器、供气机构、清洁机构、捕集器和照射机构，清洁机构包括惰气室、加热盒、注水管、排水管和排气管，供气机构包括混合管、混合室和若干供气组件，供气组件包括供气室和供气管，混合室内设有第一电机和第一齿轮，供气管内设有调节组件，调节组件包括第二齿轮、转轴、转盘和供气单元，该基于LICVD法的纳米材料生产设备通过清洁机构对反应室内部进行清洁，使反应室中充满惰性气体，保证了反应环境的清洁，便于纳米材料的生产，不仅如此，通过供气机构向反应室提供特定比例的多种气体，便于各种反应气体充分反应，防止气体浪费，减小生产成本，提高了设备的实用性。

主权项

1.一种基于LICVD法的纳米材料生产设备，其特征在于，包括反应室(1)、控制器(2)、供气机构、清洁机构、捕集器(9)和照射机构，所述控制器(2)固定在反应室(1)的一侧，所述供气机构与反应室(1)的底部连接，所述照射机构设置在反应室(1)的上方，所述捕集器(9)固定在反应室(1)的上方，所述清洁机构与反应室(1)连接，所述控制器(2)内设有PLC，所述捕集器(9)与PLC电连接；所述清洁机构包括惰气室(3)、加热盒(4)、注水管(5)、排水管(6)和排气管(7)，所述惰气室(3)与加热盒(4)的一侧连通，所述加热盒(4)的另一侧与反应室(1)的上方连通，所述加热盒(4)内设有电热网(8)，所述注水管(5)和排气管(7)均固定在反应室(1)的上方，所述排水管(6)的底端位于反应室(1)内的底部，所述注水管(5)和排气管(7)内分别设有第一阀门和第二阀门，所述排水管(6)内设有第三阀门，所述电热网(8)、第一阀门、第二阀门和第三阀门均与PLC电连接；所述供气机构包括混合管(11)、混合室(10)和若干供气组件，所述混合室(10)的一侧通过混合管(11)与反应室(1)的底部连通，所述混合管(11)内设有第四阀门，所述供气组件周向均匀分布在混合室(10)的另一侧，所述供气组件包括供气室(12)和供气管(13)，所述供气室(12)通过供气管(13)与混合室(10)连通，所述混合室(10)内设有第一电机(14)和第一齿轮(15)，所述第一电机(14)固定在混合室(10)内，所述第一电机(14)与PLC电连接，所述第一电机(14)与第一齿轮(15)传动连接，所述供气管(13)内设有调节组件，所述调节组件包括第二齿轮(16)、转轴(17)、转盘(18)和供气单元，所述转盘(18)通过转轴(17)与第二齿轮(16)固定连接，所述第二齿轮(16)与第一齿轮(15)啮合，所述调节单元与转盘(18)连接。