[发明专利]光学测量方法和传感器设备有效

专利信息
申请号: 201880085191.2 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN111699438B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: J·M·G·鲁曼;T·F·E·M·欧文瑞斯;W·J·恩格伦 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王益
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种使用光学传感器设备(15)的光学测量方法,所述光学传感器设备包括光学元件(20)、光检测器(26)以及支撑件(30),所述光学元件包括被配置成选择性地透射入射辐射的标记(22),所述光检测器被配置成接收由所述标记透射的辐射并且提供指示所接收的辐射的输出信号,所述支撑件支撑所述光学元件并且与所述光学元件成热接触。支撑件的热导率大于光学元件的热导率,并且支撑件的热膨胀系数大于光学元件的热膨胀系数。所述方法包括使用光学传感器设备执行第一测量,所述第一测量包括利用辐射照射所述标记。在第一测量期间光学元件的温度改变。支撑件的温度在整个第一测量期间大致恒定。
搜索关键词: 光学 测量方法 传感器 设备
【主权项】:
暂无信息
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