[发明专利]用于制造光子晶体的方法和设备在审
| 申请号： | 201880084300.9 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN111629993A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | C·盖贝尔;C·利普;N·斯特潘尼克;C·斯特雷伊特;R·L·霍韦尔;G·彻尔麦克;M·甘德尔;W·斯提格利兹 | 申请（专利权）人： | D.施华洛世奇两合公司 |
| 主分类号： | B82Y20/00 | 分类号： | B82Y20/00;B82Y40/00;C30B29/60;G02B6/122;C01B33/12;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京市路盛律师事务所 11326 | 代理人： | 金钦华;李宓 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制备用于制造光子晶体的液体分散体的方法。该方法包括将单分散的球体分散在液体中以形成液体分散体，并使液体分散体受到超声处理。也可以将氨溶液添加到液体分散体中。超声处理破坏了单分散的球体的凝聚体，并且使用该分散体制备的成品的光子晶体是更高度有序的，因此是更高质量的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 光子 晶体 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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