[发明专利]非平面图案化纳米结构表面及用于其制造的印刷方法有效
| 申请号： | 201880083840.5 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111526990B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·朱;卡尔·K·斯腾斯瓦德;丹尼尔·M·伦茨;托马斯·J·梅茨勒;莫塞斯·M·大卫 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/18 | 分类号： | B41C1/18;B41F17/00;B41K1/22;B41F3/26;B41K3/26;B41M1/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;李金刚 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种将图案施加到非平面表面的方法。印模具有主表面，所述主表面具有横向尺寸大于0且小于约5微米的图案元件。所述印模的所述主表面具有官能化分子，所述官能化分子具有被选择用于化学键合到所述非平面表面的官能团。所述印模被定位成引起与所述非平面表面的滚动接触，并且接触所述非平面表面以在其上形成官能化材料的自组装单层(SAM)，并且向所述非平面表面赋予图案元件的布置。所述印模的所述主表面相对于所述非平面表面平移，使得：控制在所述压印表面与所述非平面表面之间的界面处的接触压力，并且在所述压印表面和所述非平面表面彼此接触时，允许所述界面处的接触力变化。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 图案 纳米 结构 表面 用于 制造 印刷 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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