[发明专利]抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201880083529.0 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111542782A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 河野绅一;白木雄哲;大野庆晃;齐藤彩;砂道智成 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 陈亦欧;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方法，具有：在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，作为所述抗蚀剂组合物，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分、与由以通式(b1‑1)表示的化合物构成的产酸剂，式(b1‑1)中，R |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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