[发明专利]离子束蚀刻机中的反应性增强在审
| 申请号： | 201880081653.3 | 申请日： | 2018-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN111492315A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 | 申请（专利权）人： | 脸谱科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种在材料层中制造倾斜结构的方法包括：将第一反应性气体注入到反应性离子源发生器中，在反应性离子源发生器中生成包括反应性离子的等离子体，从等离子体中提取至少一些反应性离子以形成朝向材料层的准直的反应性离子束，以及将第二反应性气体注入到材料层上。准直的反应性离子束和第二反应性气体物理地和化学地蚀刻材料层，以形成倾斜的表面浮雕结构。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 蚀刻 中的 反应 增强 | ||
【主权项】：
暂无信息
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