[发明专利]用于光刻设备中的衬底保持器

摘要

本发明提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器被配置成支撑衬底，且包括主体、多个支撑元件和密封单元。主体具有主体表面。多个支撑元件从主体表面突伸出，并且每个支撑元件具有配置成支撑衬底的远端端面。密封单元可以包括第一密封构件，该第一密封构件在径向上位于所述多个支撑元件的外部并且围绕所述多个支撑元件。第一密封构件的上表面可以具有被配置成在衬底的加载和/或卸载期间与衬底接触的接触区域。在一实施例中，接触区域的位置布置在与多个支撑元件相距足够充分的距离处，使得在衬底的卸载期间，由衬底施加到第一密封构件上的力大于由衬底施加到多个支撑元件上的力。附加地或替代地，在径向通过密封构件的横截面中，接触区域的轮廓具有配置成使得在衬底卸载期间，衬底经由轮廓的至少两个不同点与密封构件接触的形状。本发明还提供了一种衬底保持器，该衬底保持器的另外构件在密封单元径向向外。所述另外构件被配置成在衬底的加载或卸载期间与衬底接触。衬底保持器的至少一部分可具有由类金刚石碳、金刚石、碳化硅、亚硝酸硼或氮化硼碳制成的涂层。