[发明专利]用于偏转和聚焦光线的设备

摘要

本公开涉及一种用于从入射电磁波产生和引导纳米喷射波束的设备，所述入射电磁波在所述设备上。所述设备的特征在于它包括：‑第一介电材料层，其具有第一折射率值(n1)；‑第二介电材料层，其具有第二折射率值(n2)，其中所述第二折射率值大于所述第一折射率值；以及其中所述第一层和第二层之间的第一边界包括第一单台阶形状结构，所述第一单台阶形状结构是根据与接近第一倾斜角的倾斜角相关联的第一直线明显限定的层级变化，其中所述设备还包括被包含在嵌入层中的介电元件，所述嵌入层是所述第一层或所述第二层，所述介电元件具有高于所述嵌入层的折射率的折射率(n3)，以及其中所述介电元件和所述嵌入层之间的第二边界包括第二单台阶形状结构，所述第二单台阶形状结构是明显地由与接近第二倾斜角的倾斜角相关联第二直线限定的层级变化，并且其中所述第二单台阶形状结构位于所述第一单台阶形状结构附近，用于将由所述第一和第二单台阶形状结构中的每一个产生的纳米喷射波束聚焦在第一聚焦点周围。