[发明专利]清洁极紫外光源的腔室内的光学器件的表面有效
| 申请号： | 201880071537.3 | 申请日： | 2018-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111316171B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 白宗薰;M·C·亚伯拉罕 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种清洁极紫外(EUV)光源(100)的腔室(125)内的光学器件(115)的表面的方法。腔室被保持在大气压以下的压力处。该方法包括在邻近光学器件表面(110)并且在腔室内的位置处生成处于等离子态的材料，生成包括将已经存在于真空腔室内并且邻近光学器件表面的天然材料(135)从第一状态转变成等离子态(130)。材料的等离子态包括材料的自由基。处于等离子态的材料通过如下被生成：使得处于等离子态的材料能够经过光学器件表面，以在不从EUV光源移除光学器件的情况下从光学器件表面移除碎屑(107)。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 紫外 光源 室内 光学 器件 表面 | ||
【主权项】：
暂无信息
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