[发明专利]用于控制倍增电极电子发射表面上污染物沉积的方法和装置在审
| 申请号： | 201880065894.9 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN111466010A | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | W.希尔斯;T.尚利 | 申请（专利权）人： | 艾德特斯解决方案有限公司 |
| 主分类号： | H01J43/10 | 分类号： | H01J43/10;H01J37/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李湘;闫小龙 |
| 地址： | 澳大利亚新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明总体上涉及科学分析设备的部件，特别涉及用于延长电子倍增器中使用的倍增电极的操作寿命或以其他方式改善其性能的方法。本发明的一个方面在一种方法中实施，该方法用于：(i)增加倍增电极的二次电子产率和/或(ii)降低倍增电极的电子产率的降低速率，该方法包括在引起沉积在倍增电极电子发射表面上的污染物的电子撞击诱导去除的条件下，将倍增电极电子发射表面暴露于电子流的步骤。可以选择所述条件，使得电子介导去除相对于污染物沉积过程得到增强，从而提供污染物沉积速率的净降低和/或倍增电极电子发射表面上存在的污染物量的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 倍增 电极 电子 发射 表面上 污染物 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
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