[发明专利]量测方法和装置有效
| 申请号： | 201880062392.0 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN111149062B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | Y·K·斯玛雷弗;N·潘迪;A·E·A·库伦 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郭星 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被配置为分别并且同时测量这些部分的检测器系统。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司，未经ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880062392.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
