[发明专利]用于将物场成像至像场的成像光学单元在审
| 申请号： | 201880061964.3 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN111133358A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | J.鲁奥夫;S.贝德;H-J.罗斯塔尔斯基;A.沃尔夫 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7)。在此处，多个反射镜(M1至M10)用以沿成像光束路径引导成像光(3)。多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个反射镜(GI反射镜)(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射角的中心物场点的主射线(16)。GI反射镜(M2至M8)中的至少两个配置于成像光束路径中作为基本GI反射镜(M2至M7)，使得其偏转效果针对主射线加总。至少一个另外的GI反射镜(M2至M8)配置在成像光束路径中作为反GI反射镜(M8)，使得其偏转效果相对基本GI反射镜(M2至M7)的偏转效果以减法的方式对主射线(16)作用。这产生了成像光学单元，其相对于成像光学单元的反射镜的反射镜主体所要求的安装空间的配置灵活性增加。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 将物场 成像 至像场 光学 单元 | ||
【主权项】：
暂无信息
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