[发明专利]双孔-控制和传感器设备在审
申请号: | 201880050897.5 | 申请日: | 2018-06-14 |
公开(公告)号: | CN111065917A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | R·斯塔姆;M·萨默斯;E·索恩;W·B·邓巴 | 申请(专利权)人: | 奥特拉公司 |
主分类号: | G01N27/447 | 分类号: | G01N27/447;G01N27/26;G01N27/416;G01N27/49 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;苏耿辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了两孔设备和用于测序的方法。一种两孔设备可以包括:第一腔室、第二腔室和第三腔室,其中所述第一腔室通过第一纳米孔与所述第二腔室连通,并且其中所述第二腔室通过第二纳米孔与所述第三腔室连通。所述设备还可以包括:感测电路系统,用于测量与在纳米孔处的目标相关联的电信号;以及控制电路系统,用于控制所述目标在纳米孔处的运动。所述设备可以包括针对所述第一纳米孔和所述第二纳米孔中的每一个的感测模式和控制模式和/或在所述感测模式和所述控制模式之间进行切换。测序方法可以实施两孔设备,涉及:目标易位穿过一个或者多个纳米孔,根据需要在感测模式和控制模式之间进行切换,以及通过在所述感测模式下使用来测量所述目标的各个方面。 | ||
搜索关键词: | 双孔 控制 传感器 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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