[发明专利]制备单相偏二氯乙烯基添加剂共混物的方法在审
| 申请号： | 201880044140.5 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN110785458A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | S.贝克尔;M.D.达维 | 申请（专利权）人： | 克里奥瓦克公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08J3/22;C08K5/00 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 徐晶;周齐宏 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种制备PVDC添加剂共混物的方法，其中将添加剂在高剪切共混下与PVDC共混以产生高度均匀的共混物，其中添加剂均匀地分布在整个PVDC中。已发现，以在每个相继阶段中降低共混物中添加剂的浓度的多个相继阶段进行高剪切共混有助于改善PVDC添加剂共混物的均匀性。例如，高剪切共混可分2至6个阶段、特别地2至4个阶段进行。还提供了一种PVDC添加剂共混物，其具有PVDC和添加剂的均匀共混物，如偏二氯乙烯和丙烯酸甲酯的PVDC共聚物与荧光剂如2,2’(2,5‑亚噻吩二基)双(5‑叔丁基苯并噁唑)的共混物。 | ||
| 搜索关键词： | 共混物 添加剂 共混 高剪切 丙烯酸甲酯 均匀共混物 偏二氯乙烯 叔丁基苯 共聚物 均匀性 亚噻吩 荧光剂 制备 发现 | ||
【主权项】：
1. 一种制备聚偏二氯乙烯聚合物(PVDC)和添加剂的均匀共混物的方法，所述方法包括/n高剪切共混PVDC聚合物的第一添加物与添加剂以获得第一共混物；和/n高剪切共混所述第一共混物的至少一部分与PVDC聚合物的第二添加物以获得其中所述添加剂均匀分布在所述PVDC中的第二共混物。/n
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