[发明专利]用于测量对准的系统和方法在审
| 申请号： | 201880037800.7 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110770653A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 埃米尔·皮特·斯克米特-威沃;K·巴塔查里亚;R·M·G·J·昆斯;W·H·亨克夫;W·T·特尔;T·F·A·M·林斯霍滕 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/95;G03F9/00 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种系统，包括：形貌测量系统，配置成确定衬底上的多个部位中的每一个部位的各自的高度；和处理器，配置成：基于确定的多个部位的高度确定所述衬底的高度图；和通过对比所述高度图和参考高度图确定所述衬底的至少一个对准参数，其中所述参考高度图包括或表示在参考衬底部分上的多个部位的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 高度图 衬底 参考 对准参数 高度确定 形貌测量 处理器 配置 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：/n形貌测量系统，配置成确定衬底上的多个部位中的每一个的各自的高度；和/n处理器，配置成：/n基于确定的多个部位的高度确定所述衬底的高度图；和/n通过对比所述高度图和参考高度图确定用于所述衬底的至少一个对准参数，其中所述参考高度图包括或表示在参考衬底部分上的多个部位的高度。/n
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