[发明专利]缝模涂布设备和缝模涂布方法在审
| 申请号： | 201880034838.9 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110785241A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 艾克·格克·德·弗里斯;威廉默·阿尔伯特·格罗恩 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用科学研究会(TNO) |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10;B05B15/70;B05C5/00 |
| 代理公司： | 11240 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 石磊 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于在基底(1)的基底表面(1s)上制造图案涂布层(3)的缝模涂布设备，包括：缝模涂布头(2)、受控的涂布流体供应系统(7)，以及用于承载基底(1)的基底载体(6)。缝模涂布头(2)包括用于从涂布流体供应系统接收涂布流体的入口(21)，以及狭缝形流出开口(22)，该狭缝形流出开口连通地耦接到入口并具有狭缝方向。受控的涂布流体供应系统(7)以第一模式(M1)和第二模式(M2)交替地操作，在第一模式中，将涂布流体的流提供到狭缝形流出开口(22)之外以沉积在基底表面上，在第二模式中，使在狭缝形流出开口(22)之外的涂布流体在基底表面上的沉积中断(21)。涂布头(2)具有从入口(21)延伸到狭缝形流出开口(22)的内部的涂布流体轨迹。以向下游的顺序，涂布流体轨迹包括：横向分布部分(23)，用于将流体的流分布在所述狭缝方向上；收集通道(24)，横向于下游方向延伸；以及流阻输出部分(25)。在从第一模式(M1)转换为第二模式(M2)时，涂布流体供应系统(7)从连通地耦接到收集通道(24)的缝模涂布头(2)的至少一个出口(26)抽吸涂布流体。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布流体 流出开口 狭缝形 缝模涂布 供应系统 基底表面 收集通道 沉积 基底 受控 狭缝 连通 横向分布 基底载体 图案涂布 下游方向 流提供 涂布头 延伸 抽吸 流体 流阻 承载 输出 中断 转换 出口 制造 | ||
【主权项】：
1.一种缝模涂布设备，用于在基底(1)的基底表面(1s)上制造图案涂布层(3)，所述缝模涂布设备包括缝模涂布头(2)、涂布流体供应系统(7)、用于控制所述涂布流体供应系统的控制器(9)、以及用于承载所述基底(1)的基底载体(6)，/n其中，所述缝模涂布头(2)包括：入口(21)，用于从所述涂布流体供应系统接收涂布流体；以及狭缝形流出开口(22)，连通地耦接到所述入口并具有狭缝方向，且其中，在使用中所述控制器(9)使所述涂布流体供应系统(7)交替地以第一模式(M1)和第二模式(M2)操作，在所述第一模式中，将所述涂布流体的流提供到所述狭缝形流出开口(22)之外以沉积在所述基底表面上，在所述第二模式中，中断(21)在所述狭缝形流出开口(22)之外的所述涂布流体在所述基底表面上的沉积，所述缝模涂布头(2)具有从所述入口(21)延伸到所述狭缝形流出开口(22)的内部涂布流体轨迹，其中，以向下游的顺序，所述涂布流体轨迹包括：横向分布部分(23)，用于将流体的流分布在所述狭缝方向上；收集通道(24)，横向于下游方向延伸；以及流阻输出部分(25)，/n其中，在从所述第一模式(M1)转换为所述第二模式(M2)时，所述控制器引起所述涂布流体供应系统(7)从连通地耦接到所述收集通道(24)的所述缝模涂布头(2)的至少一个出口(26；26a、26b、26c、26d)抽吸涂布流体，从而使所述狭缝形流出开口(22)外部的过量的涂布流体经由所述流阻输出部分、经由所述收集通道(24)流动到所述至少一个出口。/n
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